薄膜沉积设备行业概念股票有： 拓荆科技-U、中微公司。
中微公司：6月29日盘中消息，中微公司最新报价119.05元，跌1.73%，3日内股价上涨3.25%；今年来涨幅上涨0.85%，市盈率为67.53。
全球半导体刻蚀和薄膜沉积设备新星，MOCVD设备市占率高达60%，台积电先进制程刻蚀设备供应商之一。
公司在存货周转天数方面，从2018年到2021年，分别为364.5天、331.83天、273.34天、288.94天。
拓荆科技：6月29日消息，拓荆科技-U截至13时54分，该股报151.37元，跌2.41%，3日内股价上涨0.52%，总市值为193.5亿元。
公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备厂商，已配适180-14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM及64/128层FLASH制造工艺需求，产品能够兼容SiO2、SiN、SiON、BPSG、PSG、TEOS、LokⅠ、LokⅡ、ACHM、ADCⅠ等多种反应材料。同时公司也是国内领先的集成电路ALD设备厂商，目前已适配55-14nm逻辑芯片制造工艺需求。公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路SACVD设备厂商公司研发的PECVD、ALD及SACVD设备系列化产品已累计发货超150台，产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。
在存货周转天数方面，从2018年到2021年，分别为1860.88天、706.76天、540.18天、621.48天。
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